ANALISIS SIFAT MEKANIK DAN STRUKTUR MIKRO LAPISAN TiN HASIL DC
SPUTTERING PADA SUBSTRAT ALUMINIUM DENGAN VARIASI
PERBANDINGAN GAS ARGON DAN NITROGEN
Abstrak
Proses sputtering dilakukan pada substrat aluminium menggunakan lapisan tipis TiN, kemudian diadakan pengujian kekerasan dengan metode pengujian Vikers dan pengamatan pada struktur mikronya. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui sifat kekerasan aluminium dengan proses sputtering untuk mencapai tingkat kekerasan yang optimum. Sampel berupa aluminium dipotong menjadi 4 sampel uji, kemudian dilakukan pemolesan dengan Autosol menggunakan amplas dengan ukuran 120, 600, 1000, 2000 dan 5000 mesh. Kemudian sampel yang sudah dipoles dilakukan proses sputtering dengan variasi perbandingan gas Ar dan N (60 : 40; 70 : 30 ; 90 : 10%) pada waktu yang tetap 60 menit. Dari hasil pengujian kekerasan diperoleh nilai kekerasan yang terbesar atau optimum diperoleh pada perbandingan gas Ar : N yaitu 70: 30 % dalam waktu 60 menit dengan nilai kekerasan 88.2 HV, dimana nilai kekerasan substrat sebelum proses sputering adalah 37.5 HV. Sedangkan karakterisasi struktur mikro hasil lapisan TiN pada substrat Al menunjukan permukaan yang tidak rata. Hasil komposisi unsur pada permukaan dengan pengujian EDS pada kondisi kekerasan optimum diperoleh hasil Ti:0.26%; N:0.96%; O: 4.22%.
Kata Kunci : Aluminium, DC Sputtering, Titanium Nitrida
